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  • 202512-26
    P-7探針式輪廓儀的工作原理可以概括為以下幾點(diǎn)

    P-7探針式輪廓儀是一種高精度的表面形貌測(cè)量設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、MEMS、太陽(yáng)能、光電子等領(lǐng)域。其基本工作原理可以概括為以下幾點(diǎn):1.接觸式測(cè)量:采用物理探針接觸樣品表面的方式進(jìn)行測(cè)量。探針通常為金剛石材質(zhì),曲率半徑在50nm...

  • 202511-25
    需要定期對(duì)iMicro納米壓痕儀進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)

    iMicro納米壓痕儀采用特定幾何形狀的金剛石壓頭,以載荷準(zhǔn)靜態(tài)壓入材料表面。這種設(shè)計(jì)確保了壓入過(guò)程的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性,能夠適應(yīng)不同硬度的材料測(cè)試需求,在壓入過(guò)程中,儀器實(shí)時(shí)記錄加載-卸載過(guò)程中的載荷與壓入深度變化,生成詳細(xì)的載荷-位移曲線。...

  • 202510-28
    表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的使用注意事項(xiàng)

    表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)是利用高分辨率相機(jī)(包括線掃或面掃類(lèi)型)作為核心“眼睛”,配合精密光源如LED、激光等進(jìn)行照明。通過(guò)明場(chǎng)、暗場(chǎng)、同軸光、結(jié)構(gòu)光等方式增強(qiáng)被測(cè)物體表面的對(duì)比度,使各類(lèi)瑕疵特征更清晰地呈現(xiàn)出來(lái)。這些光源會(huì)根據(jù)不同的材質(zhì)和缺陷特點(diǎn)...

  • 20259-23
    薄膜厚度測(cè)量?jī)x能夠在短時(shí)間內(nèi)快速完成測(cè)量過(guò)程

    薄膜厚度測(cè)量?jī)x廣泛應(yīng)用于制造業(yè)、科研機(jī)構(gòu)以及質(zhì)檢部門(mén)等。在半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、包裝印刷、電子顯示等行業(yè)都有重要應(yīng)用,對(duì)于保證產(chǎn)品的質(zhì)量和性能起著關(guān)鍵作用。能夠在短時(shí)間內(nèi)完成測(cè)量過(guò)程,提高生產(chǎn)效率和工作效率,尤其適用于大規(guī)模生產(chǎn)和在線檢測(cè)的...

  • 20258-25
    薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量可準(zhǔn)確到兆帕(MPa)甚至更高量級(jí)

    薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)較高的測(cè)量精度,可準(zhǔn)確到兆帕(MPa)甚至更高量級(jí)。無(wú)論是微弱的拉應(yīng)力還是壓應(yīng)力,都能準(zhǔn)確捕捉。這得益于傳感器技術(shù)與精密的算法處理,如高精度的位移傳感器能分辨出微小的基底形變,光學(xué)干涉儀可準(zhǔn)確感知光程差的細(xì)微變化,從...

  • 20257-22
    Tergeo等離子清洗機(jī)可以對(duì)多種材料進(jìn)行清洗

    Tergeo等離子清洗機(jī)可以對(duì)多種材料進(jìn)行清洗,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等。無(wú)論是柔軟的聚合物材料還是堅(jiān)硬的金屬材料,等離子體都可以根據(jù)其表面特性進(jìn)行調(diào)整清洗參數(shù),以達(dá)到良好的清洗效果。例如,對(duì)于一些具有復(fù)雜形狀的醫(yī)療器械,如內(nèi)窺鏡等,等...

  • 20256-24
    需要定期對(duì)微波去膠機(jī)進(jìn)行清潔和維護(hù)

    微波去膠機(jī),特別是微波等離子去膠機(jī),在半導(dǎo)體加工、薄膜工藝等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,根據(jù)不同的光刻膠類(lèi)型、基底材料和工藝要求,準(zhǔn)確調(diào)整微波功率、真空度、氣體流量等參數(shù),以確保去膠效果和基底不受損傷;微波具有一定的輻射危害,操作人員需采取相應(yīng)的防護(hù)措施...

  • 20255-27
    旋涂顯影系統(tǒng)的性能會(huì)直接影響到整個(gè)制造工藝的質(zhì)量和效率

    在實(shí)際的工藝操作中,旋涂顯影系統(tǒng)的操作流程嚴(yán)謹(jǐn)且規(guī)范,將經(jīng)過(guò)預(yù)處理的硅片放置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上,并通過(guò)真空吸附或其他固定裝置確保硅片在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中不會(huì)發(fā)生位移或晃動(dòng)。然后,根據(jù)工藝要求選擇合適的光刻膠,并利用膠液分配裝置將光刻膠施加到硅片表面。接著,...

  • 20254-23
    薄膜沉積系統(tǒng)在半導(dǎo)體工業(yè)中承擔(dān)著關(guān)鍵角色

    薄膜沉積系統(tǒng)作為現(xiàn)代材料科學(xué)與微納加工技術(shù)領(lǐng)域中的核心設(shè)備之一,其發(fā)展與應(yīng)用深刻影響著半導(dǎo)體制造、光學(xué)鍍膜、能源材料開(kāi)發(fā)以及生物醫(yī)學(xué)工程等多個(gè)前沿領(lǐng)域。該系統(tǒng)通過(guò)精確控制原子或分子在基底表面的沉積過(guò)程,形成具有特定功能特性的薄膜結(jié)構(gòu),為器件...

  • 20253-30
    KLA Instruments太陽(yáng)能電池量測(cè)解決方案

    太陽(yáng)能電池大多由單晶硅或多晶硅制成,將晶硅錠加工成太陽(yáng)能電池需要一系列制造工藝,包括晶圓切割、制絨、酸洗、擴(kuò)散、刻蝕、減反膜沉積、激光開(kāi)槽、接觸印刷等。下圖為工藝流程中的測(cè)量節(jié)點(diǎn)。太陽(yáng)能電池工藝流程中的量測(cè)節(jié)點(diǎn),包括金剛石切割線的表面形貌、...

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